羽渕研究室の実験設備の紹介


 羽渕研究室の実験設備について説明します。




◎真空蒸着装置

 フラーレン薄膜や金属電極を作るための装置。

◎光熱偏向分光法(Photothermal deflection spectroscopy)、光熱ベンディング分光法(photothermal bending spectroscopy)

 試料の非輻射再結合過程で生じる熱を液体媒体に伝えることで、液体の屈折率に変化が生じます。それをレーザ光で検出することで光吸収スペクトルを測定できます。0.6〜3eVまで測定可能。また、試料基板を薄くすることで試料の熱膨張によって基板の曲がることを利用して光吸収スペクトルを測定できます。

◎一定光電流法(Constant photocurrent method)

 試料の光電流を一定にし、その時の試料に照射した光子数を計算することで、光吸収スペクトルを測定します。光電流は0.01fAまで測定できます。また、試料温度を変化させることで試料の電気伝導の温度依存性も測定できます。

◎自記分光光度計

 試料の反射・透過率が測定できます。島津UV-3150。学生実験にも使用。

◎小型マグネトロンスパッタ装置

 RF電力によりターゲットと反応性ガスにより窒化薄膜を作製しています。ガスはアルゴン、窒素を用います。ターゲットには、カーボン、ゲルマニウム、ニッケルなどが使用できます。

◎ホットワイヤーCVD

 カーボン薄膜を作製できます。

◎電気炉

 酸化膜や超伝導体を作製します。1000℃まで加熱可能。