研 究 活 動
学術雑誌論文・国際会議発表論文
1 K.Ishimaru and K.Okazaki, Characterization of Film Quality of Silicon Oxide Films by Remote Plasma CVD Using Dielectric Barrier Discharge from Tetraethylorthosilicate, Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC15), Vol.V, p1787-1792, 2001.
2 K.Ishimaru and K.Okazaki, Formation Mechanism of Silicon Oxide Films with High Quality of Step Coverage by Remote Plasma CVD Using Tetraethylorthosilicate, THERMAL SCIENCE AND ENGINEERING, Vol. 7, No. 6, p103-108, 1999.
3 石丸和博,岡崎健, 珪酸エチルを用いたリモートプラズマCVDによる高段差被覆性シリコン酸化膜の形成プロセス解析, THERMAL SCIENCE AND ENGINEERING, Vol. 7, No. 5, p11-20, 1999.
4 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応による高段差被覆性シリコン酸化膜の形成, 日本機械学会論文集（Ｂ編）, 65巻639号, p3814-3820, 1999.
5 K.Ishimaru and K.Okazaki, Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxide Films Using Nonequilibrium Pulsed Dielectric Barrier Discharge Plasma, Proceedings of 14th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC14), Vol.III, p1281-1286, 1999.
6 K.Ishimaru and K.Okazaki, Application of Pulsed Silent Discharge Plasma to Efficient Generation of Active Oxygen Species for SiO2 CVD, Proceedings of 13th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC13), Vol.II, p737-742, 1997.
7 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応の活性酸素種高効率生成への応用, 日本機械学会論文集（Ｂ編）, 63巻609号, p1720-1727,1997.
8 K.Ishimaru and K.Okazaki, Efficient Generation of Active Oxygen Species by Highly Nonequilibrium Pulsed Silent Discharge, Microscale Thermophysical Engineering, Vol.1, No.2 , p159-169, 1997.
9 K.Ishimaru and K.Okazaki, Formation Mechanism and Characteristics of Nonequilibrium Plasma by Pulsed Silent Discharge, Heat Transfer Japanese Research, Vol.26, No.4, p207-218, 1997.
10 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電による非平衡プラズマの形成機構とその特性, 日本機械学会論文集（Ｂ編）, 63巻606号, p609-615,1997.
11 K.Ishimaru and K.Okazaki, Quantum Analysis in the Transition Process to Excited State of an Oxygen Molecule Induced by Electron Collisions, Heat Transfer Japanese Research, Vol.25, No.7, p486-497, 1996.
12 石丸和博,岡崎健, 電子衝突に伴う酸素分子における励起状態遷移過程の量子論的解析, 日本機械学会論文集（Ｂ編）, 62巻598号, p2350-2355, 1996.
13 K.Okazaki,Y.Endo and K.Ishimaru, Leading Edge Effects in the Gravitational Deposition of Aerosol Particles, Aerosol Science,Industry Health and Enviroment (Proceedings of Third International Aerosol Conference), p359-362, 1990.
紀要論文・研究報告
1 石丸和博,福永哲也,アセチレン燃焼炎法を用いたダイヤモンド薄膜の化学的気相合成に関する研究,岐阜工業高等専門学校紀要, 第33号, p5-10, 1998.
2 石丸和博,藤田一彦, 熱フィラメントＣＶＤ法によるダイヤモンド薄膜合成における気相反応機構の解析について, 岐阜工業高等専門学校紀要, 第29号, p1-6, 1994.
3 三輪直敬,石丸和博, プラズマＣＶＤにおける気相中の空間電荷挙動に関する数値シミュレーション, 岐阜工業高等専門学校情報 処理教育・研究報告, 第26号, p19-24, 1999.
4 三間崇詞,石丸和博, 無声放電を用いたオゾン生成に関する数値解析, 岐阜工業高等専門学校情報処理教育・研究報告, 第25号, p7-12, 1998.
5 服部公則,石丸和博, 気体放電における空間電荷の効果に関する数値解析, 岐阜工業高等専門学校情報処理教育・研究報告, 第24号, p25-30, 1997.
6 長谷川洋司,石丸和博, 分子動力学法による物質状態変化の解析について, 岐阜工業高等専門学校情報処理教育・研究報告, 第22号, p1-6, 1995.
国内学会における口頭発表・講演論文
1 石丸和博,岡崎健, 無声放電によるリモートプラズマを用いたシリコン酸化膜のＣＶＤに及ぼす減圧の影響, 第38回日本伝熱シ ンポ ジウム講演論文集, Vol.I, p115-116, 2001.
2 石丸和博,三輪直敬,岡崎健, 無声放電を用いた珪酸エチル系リモートプラズマＣＶＤによるシリコン酸化膜の膜質評価, 第37回日本伝熱シンポ ジウム講演論文集, Vol.III, p965-966, 2000.
3 石丸和博,岡崎健, 珪酸エチルを用いたリモートプラズマCVDによるシリコン酸化膜の形成プロセス解析, 第36回日本伝熱シンポ ジウム講演論文集, Vol.III, p733-734, 1999.
4 石丸和博,三輪直敬,岡崎健, 大気圧下非平衡プラズマ化学反応によるシリコン酸化膜のＣＶＤと諸因子の影響, 日本機械学会東 海支部第48期総会講演会講演論文集, p281-282, 1999.
5 石丸和博,三輪直敬,岡崎健,方形波パルス誘電体バリア放電プラズマを用いたTEOS-O2系ＣＶＤによるSiO2膜の形成,第59回応用物理学会 学術講演会講演予稿集, No.2, p723, 1998.
6 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応によるシリコン酸化膜のＣＶＤ特性, 第35回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol.II, p653-654, 1998.
7 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応のシリコン酸化膜ＣＶＤへの応用, 第34回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol.II, p397-398, 1997.
8 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電による活性酸素種の高効率生成, 第33回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol.I, p123-124, 1996.
9 石丸和博,岡崎健, 電子衝突に伴う酸素分子励起状態変化の量子論的解析, 第32回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol II, p573-574, 1995.
10 石丸和博,岡崎健, 電子衝突に伴う酸素原子励起状態変化の量子モンテカルロ解析, 第31回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol. III, p934-956, 1994.
11 石丸和博,岡崎健, メタン解離過程のトラジェクトリー法による検討, 第30回日本伝熱シンポジウム講演論文集, p739-741, Vol.II, 1993.
12 石丸和博,岡崎健, 解離反応の分子動力学的取扱いに関する検討, 第29回日本伝熱シンポジウム講演論文集,p875-876, 1992.
13 遠藤喜彦,岡崎健,石丸和博, 層流境界層内での拡散、熱泳動、重力による粒子沈着挙動とその分離, 第８回エアロゾル科学・技術討論会講演論文集, p151-153, 1991.
14 岸部健治,原田繁,石丸和博,山口徹,土屋芳巳, 常圧ＣＶＤシリコン酸化膜のスリット法による膜堆積機構解明, 第３７回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, No.2, p633, 1991.
15 岡崎健,石丸和博, 平板前縁近傍の境界層発達初期における粒子の重力沈着, 第７回エアロゾル科学・技術討論会講演論文集, p159-161, 1989.
国際会議・日米セミナーにおける発表
1 K.Ishimaru and K.Okazaki, Characterization of Film Quality of Silicon Oxide Films by Remote Plasma CVD Using Dielectric Barrier Discharge from Tetraethylorthosilicate, Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC15), Orleans France, 2001.
2 K.Ishimaru and K.Okazaki, Formation Mechanism of Silicon Oxide Films with High Quality of Step Coverage by Remote Plasma CVD Using Tetraethylorthosilicate, US-Japan Joint Seminar on Molecular and Microscale Thermophysical Phenomena in Nanotechnology, Sendai Japan, 1999.
3 K.Ishimaru and K.Okazaki, Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxide Films Using Nonequilibrium Pulsed Dielectric Barrier Discharge Plasma, 14th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC14), Praha Czech, 1999.
4 K.Ishimaru and K.Okazaki, Application of Pulsed Silent Discharge Plasma to Efficient Generation of Active Oxygen Species for SiO2 CVD, 13th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC13),Beijing China, 1997 .
5 K.Ishimaru and K.Okazaki, Efficient Generation of Active Oxygen Species by Highly Nonequilibrium Pulsed Silent Discharge, U.S.-Japan Joint Seminar "Molecular and Micro Scale Transport Phenomena", Santa Barbara USA, 1996.
6 K.Okazaki,Y.Endo and K.Ishimaru, Leading Edge Effects in the Gravitational Deposition of Aerosol Particles, Third International Aerosol Conference, Kyoto Japan, 1990.
その他の口頭発表・講演論文
1 加賀博之,石丸和博, 高周波グロー放電のダイヤモンド薄膜ＣＶＤへの応用, 日本機械学会東海学生会第30回卒業研究発表講演会 講演前刷集, p108-109, 1999.
2 鈴木宏和,石丸和博, 無声放電によるオゾン生成における諸因子の影響, 日本機械学会東海学生会第28回卒業研究発表講演会講演前刷集, p177-178, 1997.
3 石丸和博,岡崎健,エアロゾルサンプリングにおけるプローブ管内粒子損失過程の解析,日本機械学会東海学生会第18回卒業研究発表講演会講演前刷集, p63-64, 1987.
文部省科学研究費補助金受入実績
1 石丸和博, 大気圧非平衡プラズマを用いた化学反応による高品質シリコン酸化膜の気相合成, 平成１２年度〜平成１３年度文部省科学研究費補助金, 奨励研究（A）課題番号12750173.
2 石丸和博, 大気圧非平衡プラズマを用いた化学反応による高品質シリコン酸化膜の気相合成, 平成１２年度文部省科学研究費補助金実績報告書（研究実績報告書）, 奨励研究（A）課題番号12750173.
3 石丸和博, 非平衡プラズマ状態下での有機シリコン源と酸素によるシリコン酸化膜の化学的気相合成, 平成１０年度文部省科学研究費補助金実績報告書（研究実績報告書）, 奨励研究（A）課題番号09750241.（平成９年度から継続）
4 石丸和博, 非平衡プラズマ状態下での有機シリコン源と酸素によるシリコン酸化膜の化学的気相合成, 平成９年度文部省科学研究費補助金実績報告書（研究実績報告書）, 奨励研究（A）課題番号09750241.
5 石丸和博, 無声放電を用いた非平衡プラズマによる珪酸エチルと酸素からのシリコン酸化膜合成, 平成８年度文部省科学研究費補助金実績報告書（研究実績報告書）,奨励研究（A）課題番号08750251.
6 石丸和博, 方形波パルス無声放電を用いた珪酸エチルと酸素によるシリコン酸化膜の化学的気相合成, 平成６年度文部省科学研究費補助金実績報告書（研究実績報告書）,奨励研究（A）課題番号06750218.
7 石丸和博, 非平衡状態における化学的気相合成によるシリコン酸化薄膜形成機構の熱分子論的解析, 平成５年度文部省科学研究費補助金実績報告書（研究実績報告書）,奨励研究（A）課題番号05750205.
8 石丸和博, 化学的気相合成によるダイヤモンド薄膜形成における表面反応機構の分子論的解析, 平成４年度文部省科学研究費補助金実績報告書（研究実績報告書）,奨励研究（A）課題番号04750178.
奨学寄付金受入実績
1. （財）小川科学技術財団 「高周波大気圧グロー放電プラズマを用いた機能性薄膜の化学的気相合成」 （平成10年）
2. 安田株式会社 「方形波パルス無声放電を用いたオゾン生成に関する研究」（平成6年）
公開特許公報（出願人：三菱電機株式会社）
1 石丸和博,菅野弘樹,岸部健治, 半導体装置の製造方法, 公開特許公報（A）,平5-21402.
2 原田繁,石丸和博, 萩公男, 半導体集積回路装置の配線接続構造およびその製造方法, 公開特許公報（A）,平4-311058.
3 石丸和博,原田繁,藤木謙昌, 半導体装置,およびその製造方法, 公開特許公報（A）,平4-152657.
博士論文「大気圧非平衡プラズマの基礎特性と薄膜形成プロセスへの応用に関する研究」（平成11年：東京工業大学）
修士論文「エアロゾル粒子の壁面沈着挙動に及ぼす境界層の影響」（平成元年：豊橋技術科学大学）
卒業論文「エアロゾルサンプリングにおけるプローブ管内粒子損失過程の解析」（昭和62年：豊橋技術科学大学）