　専門分野　

熱・流体工学

分子熱流体

プラズマ熱工学

　研究課題　

　　　　　　　 I. 半導体デバイス層間絶縁膜用シリコン酸化膜の化学的気相合成（ＣＶＤ）に関する研究

　　　　　　　II. ダイヤモンド薄膜の化学的気相合成（ＣＶＤ）に関する研究

　　　　　　III. オゾン（活性酸素種）の生成に関する研究

　　　　　　 IV. プロセスプラズマの生成・構造および物質状態変化に関する研究

　　　　　　 V. エアロゾル粒子の壁面沈着挙動に関する研究

　所属学会　

日本機械学会

　　　　　　　（薄膜・表面物理分科会）

化学工学会　