I. 半導体デバイス層間絶縁膜用シリコン酸化膜の化学的気相合成（ＣＶＤ）に関する研究
1 K.Ishimaru and K.Okazaki, Characterization of Film Quality of Silicon Oxide Films by Remote Plasma CVD Using Dielectric Barrier Discharge from Tetraethylorthosilicate, Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC15), Vol.V, p1787-1792, 2001.
2 石丸和博,岡崎健, 無声放電によるリモートプラズマを用いたシリコン酸化膜のＣＶＤに及ぼす減圧の影響, 第38回日本伝熱シンポ ジウム講演論文集, Vol.I, p115-116, 2001.
3 石丸和博,三輪直敬,岡崎健, 無声放電を用いた珪酸エチル系リモートプラズマＣＶＤによるシリコン酸化膜の膜 質評価, 第37回日本伝熱シンポ ジウム講演論文集, Vol.III, p965-966, 2000.
4 K.Ishimaru and K.Okazaki, Formation Mechanism of Silicon Oxide Films with High Quality of Step Coverage by Remote Plasma CVD Using Tetraethylorthosilicate, Thermal Science and Engineering, Vol. 7, No. 6, p103-108, 1999.
5 石丸和博,岡崎健, 珪酸エチルを用いたリモートプラズマCVDによる高段差被覆性シリコン酸化膜の形成プロセス解析, THERMAL SCIENCE AND ENGINEERING, Vol. 7, No. 5, p11-20, 1999.
6 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応による高段差被覆性シリコン酸化膜の形成, 日本機械学会論文集（Ｂ編）, 65巻639号, p3814-3820, 1999.
7 K.Ishimaru and K.Okazaki, Formation mechanism of Silicon Oxide Films with High Quality of Step Coverage by Remote Plasma CVD Using Tetraethylorthosilicate, Japan-US Joint Seminar on Molecular and Microscale Thermophysical Phenomena in Nanotechnology, Sendai Japan, 1999, abstract.
8 K.Ishimaru and K.Okazaki, Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxide Films Using Nonequilibrium Pulsed Dielectric Barrier Discharge Plasma, Proceedings of 14th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC14), Vol.III, p1281-1286, 1999.
9 石丸和博,岡崎健, 珪酸エチルを用いたリモートプラズマCVDによるシリコン酸化膜の形成プロセス解析, 第36回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol.III, p733-734, 1999.
10 石丸和博,三輪直敬,岡崎健, 大気圧下非平衡プラズマ化学反応によるシリコン酸化膜のＣＶＤと諸因子の影響, 日本機械学会東海支部第48期総会講演会講演論文集, p281-282, 1999.
11 石丸和博,三輪直敬,岡崎健, 方形波パルス誘電体バリア放電プラズマを用いたTEOS-O2系ＣＶＤによるSiO2膜の形成, 第59回応用物理学会学術講演会講演予稿集, No.2, p723,1998.
12 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応によるシリコン酸化膜のＣＶＤ特性, 第35回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol.II, p653-654, 1998.
13 K.Ishimaru and K.Okazaki, Application of Pulsed Silent Discharge Plasma to Efficient Generation of Active Oxygen Species for SiO2 CVD,Proceedings of 13th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC13), Vol.II, p737-742, 1997.
14 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応のシリコン酸化膜ＣＶＤへの応用, 第34回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol.II, p397-398, 1997.
15 岸部健治,原田繁,石丸和博,山口徹,土屋芳巳, 常圧ＣＶＤシリコン酸化膜のスリット法による膜堆積機構解明, 第37回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, No.2, p633, 1991.
II. ダイヤモンド薄膜の化学的気相合成（ＣＶＤ）に関する研究
1 加賀博之,石丸和博, 高周波グロー放電のダイヤモンド薄膜ＣＶＤへの応用, 日本機械学会東海学生会第30回卒業研究発表講演会講演前刷集, p108-109, 1999.
2 石丸和博,福永哲也,アセチレン燃焼炎法を用いたダイヤモンド薄膜の化学的気相合成に関する研究,岐阜工業高等専門学校紀要, 第33号, p5-10, 1998.
3 石丸和博,藤田一彦, 熱フィラメントＣＶＤ法によるダイヤモンド薄膜合成における気相反応機構の解析について, 岐阜工業高等専門学校紀要, 第29号, p1-6, 1994.
4 石丸和博,岡崎健, メタン解離過程のトラジェクトリー法による検討, 第30回日本伝熱シンポジウム講演論文集, p739-741, Vol.II, 1993.
5 石丸和博,岡崎健, 解離反応の分子動力学的取扱いに関する検討, 第29回日本伝熱シンポジウム講演論文集,p875-876, 1992.
1 三間崇詞,石丸和博, 無声放電を用いたオゾン生成に関する数値解析, 岐阜工業高等専門学校情報処理教育・研究報告, 第25号, p7-12, 1998.
2 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応の活性酸素種高効率生成への応用, 日本機械学会論文集（Ｂ編）, 63巻609号, p1720-1727,1997.
3 K.Ishimaru and K.Okazaki, Efficient Generation of Active Oxygen Species by Highly Nonequilibrium Pulsed Silent Discharge, Microscale Thermophysical Engineering, Vol.1, No.2 , p159-169, 1997.
4 鈴木宏和,石丸和博, 無声放電によるオゾン生成における諸因子の影響, 日本機械学会東海学生会第28回卒業研究発表講演会講演前刷集, p177-178, 1997.
5. K.Ishimaru and K.Okazaki, Efficient Generation of Active Oxygen Species by Highly Nonequilibrium Pulsed Silent Discharge, US-Japan Joint Seminar "Molecular and Micro Scale Transport Phenomena", Santa Barbara USA, 1996, Abstract.
6 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電による活性酸素種の高効率生成, 第33回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol.I, p123-124,1996.
IV. プロセスプラズマの生成・構造および物質状態変化に関する研究
1 三輪直敬,石丸和博, プラズマＣＶＤにおける気相中の空間電荷挙動に関する数値シミュレーション, 岐阜工業高等専門学校情報処理教育・研究報告, 第26号, p19-24, 1999.
2 石丸和博,岡崎健, 方形波パルス無声放電による非平衡プラズマの形成機構とその特性, 日本機械学会論文集（Ｂ編）, 63巻606号,p609-615,1997.
3 K.Ishimaru and K.Okazaki, Formation Mechanism and Characteristics of Nonequilibrium Plasma by Pulsed Silent Discharge, Heat Transfer Japanese Research, Vol. 26, No.4, p207-218, 1997.
4 服部公則,石丸和博, 気体放電における空間電荷の効果に関する数値解析, 岐阜工業高等専門学校情報処理教育・研究報告, 第24号, p25-30, 1997.
5 石丸和博,岡崎健, 電子衝突に伴う酸素分子における励起状態遷移過程の量子論的解析, 日本機械学会論文集（Ｂ編）, 62巻598号,p2350-2355, 1996.
6 K.Ishimaru and K.Okazaki, Quantum Analysis in the Transition Process to Excited State of an Oxygen Molecule Induced by Electron Collisions, Heat Transfer Japanese Research, Vol.25, No.7, p486-497, 1996.
7 石丸和博,岡崎健, 電子衝突に伴う酸素分子励起状態変化の量子論的解析, 第32回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol II, p573-574, 1995.
8 長谷川洋司,石丸和博, 分子動力学法による物質状態変化の解析について, 岐阜工業高等専門学校情報処理教育・研究報告, 第22号, p1-6, 1995.
9 石丸和博,岡崎健, 電子衝突に伴う酸素原子励起状態変化の量子モンテカルロ解析, 第31回日本伝熱シンポジウム講演論文集, Vol. III, p934-956, 1994.
1 遠藤喜彦,岡崎健,石丸和博, 層流境界層内での拡散、熱泳動、重力による粒子沈着挙動とその分離, 第８回エアロゾル科学・技術討論会講演論文集, p151-153, 1991.
2 K.Okazaki,Y.Endo and K.Ishimaru, Leading Edge Effects in the Gravitational Deposition of Aerosol Particles, Aerosol Science,Industry Health and Enviroment (Proceedings of Third International Aerosol Conference), p359-362, 1990.
3 岡崎健,石丸和博, 平板前縁近傍の境界層発達初期における粒子の重力沈着, 第７回エアロゾル科学・技術討論会講演論文集,p159-161, 1989.
4 石丸和博,岡崎健,エアロゾルサンプリングにおけるプローブ管内粒子損失過程の解析,日本機械学会東海学生会第18回卒業研究発表講演会講演前刷集, p63-64, 1987.